和田热门锆靶

1）金属钛、结晶钛、钛板，钛丝、钛棒、钛卷带、钛箔、钛篮、钛包铜、钛管、钛冷却管、钛螺丝等。
2）金属锆、高纯锆、海绵锆，碘化锆、结晶锆、锆锭、锆篮、锆靶、锆屑、锆边角、锆棒、锆板、锆管、锆钢反应釜罐，锆盘管，锆冷却管，锆丝、锆箔、锆带、锆舟、锆杯、锆螺丝、锆包铜，锆铁，铝锆中间合金等。
3）结晶铪，高纯铪，海绵铪，铪丝、铪靶、铪棒、铪下角料、铪锭、铪屑等。4）金属钽，钽板，钽丝，钽棒，钽靶等。
5）金属铌，铌锭，铌板，铌棒，铌板，铌粉等。
公司和内地、中国台湾、韩国、泰国的许多企业建立了长期的合作关系。公司秉诚以诚信为本、质量**、用户至上的经营理念，坚持“诚实守信，精益求精”的精神宗旨，竭诚为广大厂商提供优质的产品和服务，确保公司与客户的持续发展。

深圳市华宇金属材料有限公司位于深圳市的中部工业发达区龙华。公司产品延续深圳市新兴金属科技有限公司，创建于2005年，向PCB电镀、化工厂家、化工设备，真空离子镀膜、吸气剂、铬锆铜合金、磁性材料，铝锆中间合金，等离子切割等领域的厂家现货供应有色金属的钛，锆，铪，铌，钽等的原材料及产品：
1）金属钛、结晶钛、钛板，钛丝、钛棒、钛卷带、钛箔、钛篮、钛包铜、钛管、钛冷却管、钛螺丝等。
2）金属锆、高纯锆、海绵锆，碘化锆、结晶锆、锆锭、锆篮、锆靶、锆屑、锆边角、锆棒、锆板、锆管、锆钢反应釜罐，锆盘管，锆冷却管，锆丝、锆箔、锆带、锆舟、锆杯、锆螺丝、锆包铜，锆铁，铝锆中间合金等。
3）结晶铪，高纯铪，海绵铪，铪丝、铪靶、铪棒、铪下角料、铪锭、铪屑等。4）金属钽，钽板，钽丝，钽棒，钽靶等。
5）金属铌，铌锭，铌板，铌棒，铌板，铌粉等。
公司和内地、中国台湾、韩国、泰国的许多企业建立了长期的合作关系。公司秉诚以诚信为本、质量**、用户至上的经营理念，坚持“诚实守信，精益求精”的精神宗旨，竭诚为广大厂商提供优质的产品和服务，确保公司与客户的持续发展。
溅射靶材主要应用于电子及信息产业，如集成电路、信息存储、液晶显示屏、激光存储器、电子控制器件等；亦可应用于玻璃镀膜领域；还可以应用于耐磨材料、高温耐蚀、高档装饰用品等行业。
分类
? 根据形状可分为方靶，圆靶，异型靶
? 根据成份可分为金属靶材、合金靶材、陶瓷化合物靶材
? 根据应用不同又分为半导体关联陶瓷靶材、记录介质陶瓷靶材、显示陶瓷靶材、**导陶瓷靶材和巨磁电阻陶瓷靶材等
? 根据应用领域分为微电子靶材、磁记录靶材、光碟靶材、贵金属靶材、薄膜电阻靶材、导电膜靶材、表面改性靶材、光罩层靶材、装饰层靶材、电极靶材、封装靶材、其他靶材
磁控溅射原理：在被溅射的靶较(阴极)与阳极之间加一个正交磁场和电场，在高真空室中充入所需要的惰性气体(通常为Ar气)，*磁铁在靶材料表面形成250～350高斯的磁场，同高压电场组成正交电磁场。在电场的作用下，Ar气电离成正离子和电子，靶上加有一定的负高压，从靶较发出的电子受磁场的作用与工作气体的电离几率增大，在阴极附近形成高密度的等离子体，Ar离子在洛仑兹力的作用下加速飞向靶面，以很高的速度轰击靶面，使靶上被溅射出来的原子遵循动量转换原理以较高的动能脱离靶面飞向基片淀积成膜。 磁控溅射一般分为二种：支流溅射和射频溅射，其中支流溅射设备原理简单，在溅射金属时，其速率也快。而射频溅射的使用范围更为广泛，除可溅射导电材料外，也可溅射非导电的材料，同时还司进行反应溅射制备氧化物、氮化物和碳化物等化合物材料。若射频的频率提高后就成为微波等离子体溅射，常用的有电子回旋共振(ECR)型微波等离子体溅射。

平面显示器（FPD)这些年来大幅冲击以阴极射线管(CRT)为主的电脑显示器及电视机市场，亦将带动ITO靶材的技术与市场需求。如今的iTO靶材有两种．一种是采用纳米状态的氧化铟和氧化锡粉混合后烧结，一种是采用铟锡合金靶材。铟锡台金靶材可以采用直流反应溅射制造ITO薄膜，但是靶表面会氧化而影响溅射率，并且不易得到大尺寸的台金靶材。如今一般采取**种方法生产ITO靶材，利用L}IRF反应溅射镀膜．它具有沉积速度快．且能精确控制膜厚，电导率高，薄膜的一致性好，与基板的附着力强等优点l。但是靶材制作困难，这是因为氧化铟和氧化锡不容易烧结在一起。一般采用ZrO2、Bi2O3、CeO等作为烧结添加剂，能够获得密度为理论值的93%~98%的靶材，这种方式形成的ITO薄膜的性能与添加剂的关系较大。日本的科学家采用Bizo作为添加剂，Bi2O3在820Cr熔化，在l500℃的烧结温度**出部分已经挥发，这样能够在液相烧结条件下得到比较纯的ITO靶材。而且所需要的氧化物原料也不一定是纳米颗粒，这样可以简化前期的工序。采川这样的靶材得到的ITO薄膜的屯阻率达到8．1×10n-cm，接近纯的ITO薄膜的电阻率。FPD和导电玻璃的尺寸都相当火，导电玻璃的宽度甚至可以达到3133_，为了提高靶材的利用率，开发了不同形状的ITO靶材，如圆柱形等。2000年，国家发展计划**、科学技术部在《当前**发展的信息产业重点领域指南》中，ITO大型靶材也列入其中。
锆靶，铪靶，铪板，铪靶材：镀膜靶材是通过磁控溅射、多弧离子镀或其他类型的镀膜系统在适当工艺条件下溅射在基板上形成各种功能薄膜的溅射源。简单说的话，靶材就是高速荷能粒子轰击的目标材料，用于高能激光武器中，不同功率密度、不同输出波形、不同波长的激光与不同的靶材相互作用时，会产生不同的杀伤破坏效应。例如：蒸发磁控溅射镀膜是加热蒸发镀膜、铝膜等。更换不同的靶材（如铝、铜、不锈钢、钛、镍靶等），即可得到不同的膜系（如超硬、耐磨、防腐的合金膜等）。
中文名
靶材
外文名
target material
材质分类1
金属靶材
材质分类2
陶瓷靶材