江西进口铪靶

磁控溅射镀膜靶材：
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高纯高密度溅射靶材有：
溅射靶材（纯度：99.9%-99.999%）
铪靶··锆靶
锆、铪
1923年，瑞典化学家赫维西和荷兰物理学家D·科斯特在挪威和格陵兰所产的锆石中发现铪元素，并命名为hafnium，它来源于哥本哈根城的拉丁名称Hafnia。1925年，赫维西和科斯特用含氟络盐分级结晶的方法分离掉锆、钛，得到纯的铪盐；并用金属钠还原铪盐，得到纯的金属铪。 [1] 赫维西制得了几毫克纯铪的样品。 [2]
铪为银灰色的金属，有金属光泽；金属铪有两种变体：α铪为六方密堆积变体(1750℃)，其转变温度比锆高。金属铪在高温下有同素异形变体存在。金属铪有较高的中子吸收截面，可用作反应堆的控制材料。 [1]
晶体结构有两种：在1300℃以下时，为六方密堆积（α-式）；在1300℃以上时，为体心立方（β-式）。具有塑性的金属，当有杂质存在时质变硬而脆。空气中稳定，灼烧时仅在表面上发暗。细丝可用火柴的火焰点燃。性质似锆。不和水、稀酸或强碱作用，但易溶解在王水和氢氟酸中。在化合物中主要呈+4价。铪合金（Ta4HfC5）是已知熔点较高的物质（约4215℃）。 [2]

二氧化铪
德克萨斯州大学的Carl Collins教授做的一次实验中声称经伽玛射线照射的铪178m2（同质异能素铪-178m2 [7] ）可以释放巨大的能量，其能量比化学反应高5个数量级，但比核反应低3个数量级。 [8-9] Hf178m2（铪178m2）在相似的**命同位素中有着较长的寿命：Hf178m2（铪178m2）的半衰期长达31年，因此其**放射性活度约为1.6万亿贝克勒尔。Collins的报告指出：一克纯Hf178m2（铪178m2）包含约1330兆焦耳，这相当于300千克TNT炸药爆炸释放的能量。Collins的报告指出这一反应中所有的能量都以X射线或伽玛射线形式释放，这一能量释放速度较快，且Hf178m2（铪178m2）在较低浓度下仍可发生反应。 [9] 五角大楼为此拨款研究。 [10] 实验中信噪比很低(误差较大)，且自此之后，尽管经过包括由美国*部先进项目研究局（DARPA） [11-12] 及 JASON Defense Advisory Group [13] 等多国组织科学家多次试验，没有任何科学家能在Collins声称的条件下实现这一反应 [14] ，而Collins也未能给出有力的证据证明这一反应的存在。 [13] 2006年，Collins提出利用诱发伽玛射线发射使Hf178m2（铪178m2）释放能量的方法 [15] ，但另曾有科学家在理论上证明了这种反应不可能实现。 [16] Hf178m2（铪178m2）在学术界被普遍认为不能作为能源来源。
1.可由镁还原四氯化铪或热分解四碘化铪制取。也可以HfCl4和K2HfF6为原料。在NaCl-KCl-HfCl4或K2HfF6熔体中电解制取，其工艺过程与锆的电解制取相近。
2.铪多与锆共存，没有单独存在的铪原料。铪的制造原料是在制造锆的工艺流程中分离出来的粗氧化铪。用离子交换树脂的方法提取氧化铪，随后利用与锆相同的方法从这种氧化铪中制取金属铪。
3.可由四氯化铪（HfCl4）与钠共热经还原而制得。 [20-21]
4.较早分离锆、铪的方法是含氟络盐的分级结晶和磷酸盐的分级沉淀。这些方法操作麻烦，**于实验室使用。陆续出现了分级蒸馏、溶剂萃取、离子交换和分级吸附等分离锆、铪的新技术，其中以溶剂萃取法较有实用价值。常用的两种分离体系是硫氰酸盐－异己酮体系和磷酸三丁酯－硝酸体系。以上方法所得产品都是氢氧化铪，通过煅烧可得纯的氧化铪。高纯度的铪可以用离子交换法取得。
工业上，金属铪的生产常常并用克罗尔法和德博尔-阿克尔法。克罗尔法是用金属镁还原四氯化铪：
市场概况
日本。就美国而言．约有50家中小规模的靶材制造商及经销商，其中较大的公司员工大约有几百人。不过为了能更接近使用者，以便提供更完善的售后服务，**主要靶材制造商通常会在客户所在地设立分公司。近段时间，亚洲的一些国家和地区，如中国台湾．韩国和新加坡，就建立了越来越多制造薄膜元件或产品的工厂，如IC、液晶显示器及光碟制造厂。
对靶材厂商而言，这是相当重要的新兴市场。中国靶材产业发展也是与日俱增，不断的扩大自己的规模和生产技术，国内*生产制造靶材的品牌已经达到国外较良好的技术水平。2010年，日本三菱公司就在中国台湾地区建立了光碟埘靶材的生产基地，可以满足中国台湾50%的靶材需要。
BCC(BusinessCommunicationsCompany，商业咨询公司）较新的统计报告指出，**靶材市场将以8.8%的年平均增长率（AAGR)在今后的5年内持续增长，估计销售额将从1999年的7.2亿美元增加到2004年的11亿美元。靶材是一种具有高附加价值的特种电子材料，主要使用在微电子，显示器，存储器以及光学镀膜等产业上，用以溅射用于尖端技术的各种薄膜材料。BCC的报告显示：**的上述产业在1999年使用了2.88百万公斤靶材。换算为面积，则溅射了363百万平方米的薄膜。而若以单位靶材来计算，**在1999年则大约使用了37400单位的靶材。这里所要指出的是，随着应用产业的不同，靶材的形状与大小也有所差异，其直径从15Gm到3m都有，而上述的统计资料，则是平均化后的结果。 [1]