石家庄钛铝靶钛铌靶电话 多弧钛铝靶材 可加工定制

醴陵市利吉升新材料有限公司

据《中国靶材行业报告》的统计，我国靶材产业的市场规模逐年扩大，仅溅射靶材在半导体集成电路领域的应用规模目前就已经达到十多亿元。
靶材的主要性能要求:
纯度
纯度是靶材的主要性能指标之一，因为靶材的纯度对薄膜的性能影响很大。不过在实际应用中，
对靶材的纯度要求也不尽相同。例如，随着微电子行业的迅速发展，硅片尺寸由6”, 8“发展到
12”, 而布线宽度由0.5um减小到0.25um,0.18um甚至0.13um，以前99.995%的靶材纯度可以满足
0.35umIC的工艺要求，而制备0.18um线条对靶材纯度则要求99.999%甚至99.9999%。

作为制备和生产功能薄膜的方法之一，溅射法广泛应用于许多领域。它是目前制备金属薄膜常用的工艺。作
为高技术用的靶材是一种全新的概念。随着高技术用新材料突飞猛进的发展，世界靶材的市场销售规模日益扩大

晶粒尺寸及晶粒尺寸分布
通常靶材为多晶结构，晶粒大小可由微米到毫米量级。对于同一种靶材，晶粒细小的靶的溅射速
率比晶粒粗大的靶的溅射速率快；而晶粒尺寸相差较小(分布均匀)的靶溅射沉积的薄膜的厚度分
布更均匀。
镀膜靶材是通过磁控溅射、多弧离子镀或其他类型的镀膜系统在适当工艺条件下溅射在基板上形
成各种功能薄膜的溅射源。简单说的话，靶材就是高速荷能粒子轰击的目标材料，用于高能激光
武器中，不同功率密度、不同输出波形、不同波长的激光与不同的靶材相互作用时，会产生不同
的杀伤破坏效应。例如：蒸发磁控溅射镀膜是加热蒸发镀膜、铝膜等。更换不同的靶材（如铝、
铜、不锈钢、钛、镍靶等），即可得到不同的膜系（如超硬、耐磨、防腐的合金膜等
此产品广泛应用于真空镀膜行业，多弧离子镀膜设备，应用于各种膜层的镀制，银色，金色，玫
瑰金，黑钛，玫瑰红，七彩色等
钛铝（TiAl）合金靶
2N8-4N
3.6-4.2
玫瑰金/咖啡色
圆柱形
直 径
60/65/95/100*30/32/40/45mm
装饰/工具
有专业的熔炼设备，高真空感应熔炼，电弧熔炼，高温悬浮熔炼等，可定制二元合金，三元合
金，多元合金等，可为客户定制开发高温合金，高熵合金，非晶合金等。并且可以提供单质金属
原料。常规合金包括：
二元合金Al-Sc Al-Nd Al-Si Co-Fe Cr-Al Cu-Ga Fe-Ga Ni-Cr Ni-V Ni-Ti Ni-Fe Ni-
Cu W-Ti
三元合金Co-Fe-B Au-Ge-Ni Co-Cr-W Ti-V-Ni Ag-Cu-Zn
多元合金锆铜铪钛镍 铝铬钼钽钛锆 铝钴铬铁镍等多元高温高熵合金