洛阳水路背板 昆山世高新材料科技有限公司

厚度均匀性主要取决于：
1、基片材料与靶材的晶格匹配程度
2、基片表面温度
3、蒸发功率，速率
4、真空度
5、镀膜时间，厚度大小。

ITO靶材技术一直掌握在日本、韩国等少数企业手中，而中国企业在自主技术的研发上却一直进展缓慢。

对于不同的溅射材料和基片， 佳参数需要实验确定，是各不相同的，镀膜设备的好坏主要在于能否精 确控温，能否保证好的真空度，能否保证好的真空腔清洁度。MBE分子束外沿镀膜技术，已经比较好的解决了如上所属的问题，但是基本用于实验研究，工业生产上比较常用的体式镀膜机主要以离子蒸发镀膜和磁控溅射镀膜为主。

晶向均匀性：1、晶格匹配度；2、基片温度；3、蒸发速率。