长沙AZO靶材厂家 昆山世高新材料科技有限公司

磁控溅射技术是20世纪70年始应用于实践的，其制备薄膜的原理：在真空室充入压强0.1-l0 Pa的惰性气体(Ar)的同时，在阴极靶材下面放置了100～1000Gauss强力磁铁。

制备AZO薄膜的方法有很多种，主要有磁控溅射法、金属**物化学气相沉积法、脉冲激光沉积法、喷雾热分解法、分子束外延法及溶胶一凝胶法等。其中，磁控溅射法制AZO薄膜具有较高的沉积速率、低的衬底温度和良好的衬底粘附性等优点而被广泛的应用。

AZO靶材：
成份组成按照客户要求，相对密度＋99.3%（＋5.55g/cm3），体电阻率≤1.0×10-3Ω。cm，单片尺寸300mm*250mm*20mm，提供帮定支持。

具有沉积速率高、基片沉积温度低、成膜粘附性好、易控制、成本低，能实现大面积制膜的优点，成为当今工业化生产、研究多、成熟、应用广的一项成膜技术，也是AZO薄膜制备中常用的方法。