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厦门磁控溅射氮化钽靶材 TaN靶材
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货号：氮化钽溅射靶材品名：TaN产地：湖南品牌：利吉升纯度：99.5%尺寸：非标定制
一定工作压力下，制备的氮化钽薄膜硬度高达４０００ｋｇ／ｍｍ２以上。本文探讨了氮化钽薄膜高硬度的原因，并且讨论了随氮分压的提高薄膜织构变化的原因
利用磁控反应溅射技术制备氮化钽薄膜，对磁控反应溅射制备氮化钽薄膜的工艺参数（包括氮分压比、加热温度、溅射压力、溅射电流）用正交设计进行优化
氮化钽靶材合成
1、将金属钽粉用氮气或氨气在1100℃左右直接氮化制得；
2、以金属钽和氮气为原料制备氮化钽，反应式如下：2Ta+N2=2TaN。
用作超硬质材料添加剂，可制备纯的五氯化钽：用于喷涂，增加变压器、集成线路、二极管的电稳定性
