银溅射靶材主要应用于电子及信息产业,如集成电路、信息存储、液晶显示屏、激光存储器、电子控制器件等,亦可用于玻璃镀膜领域。
银靶材分为电镀银靶 和磁控溅射银靶 电镀银靶 要求比较低 真空溅射银靶 要求纯度比较高
蒸发银丝 一般是用量比较小 做实验用 一般用多少自己裁多少
银靶材具有好的导电性能、密度小、熔点低等优点,且价格相对于其他贵金属便宜许多,所以银靶材被广泛用于集成电路和大规模集成电路中。
-银靶材:纯Ag平面靶是一种用于真空镀膜的纯金属靶材。靶材组织均匀,晶粒细化,表面光洁度和尺寸精度高,杂志含量符合国标。
银靶材主要元素是---- 银(Argentum),为过渡金属的一种。化学符号Ag。银是古代就已知并加以利用的金属之一,是一种重要的贵金属。银在自然界中有单质存在,但绝大部分是以化合态的形式存在于银矿石中。银的理化性质均较为稳定,导热、导电性能很好,质软,富延展性。其反光率极高,可达99%以上。有许多重要用途
高纯银是一种美丽的银白色的金属,它具有很好的延展性,其导电性和导热性
银条
银靶材
蒸发银颗粒
在所有的金属中都是的。银常用来制作灵敏度极高的物理仪器元件,各种自动化装置、火箭、潜水艇、计算机、核装置以及通讯系统,所有这些设备中的大量的接触点都是用银制作的。在使用期间,每个接触点要工作上百万次,必须耐磨且性能可靠,能承受严格的工作要求,银完全能满足种种要求。如果在银中加入稀土元素,性能就更加优良。用这种加稀土元素的银制作的接触点,寿命可以延长好几倍