沈阳钛铝靶钛铌靶规格

醴陵市利吉升新材料有限公司

溅射靶材的要求较传统材料行业高，一般要求如，尺寸、平整度、纯度、各项杂质含量、密度、
N/O/C/S、晶粒尺寸与缺陷控制；较高要求或特殊要求包含：表面粗糙度、电阻值、晶粒尺寸均
匀性、成份与组织均匀性、异物（氧化物）含量与尺寸、导磁率、超高密度与超细晶粒等等。磁
控溅射镀膜是一种新型的物相镀膜方式,就是用电子系统把电子发射并聚焦在被镀的材料
上，使其被溅射出来的原子遵循动量转换原理以较高的动能脱离材料飞向基片淀积成膜。这种被
镀的材料就叫溅射靶材。 溅射靶材有金属，合金，陶瓷，硼化物等。

高纯高密度溅射靶材有：
溅射靶材（纯度：99.9%-99.999%）
1. 金属靶材：
镍靶、Ni、钛靶、Ti、锌靶、Zn、铬靶、Cr、镁靶、Mg、铌靶、Nb、锡靶、Sn、铝靶、Al、铟靶
、In、铁靶、Fe、锆铝靶、ZrAl、钛铝靶、TiAl、锆靶、Zr、铝硅靶、AlSi、硅靶、Si、铜靶Cu
、钽靶T、a、锗靶、Ge、银靶、Ag、钴靶、Co、金靶、Au、钆靶、Gd、镧靶、La、钇靶、Y、铈
靶、Ce、钨靶、w、不锈钢靶、镍铬靶、NiCr、铪靶、Hf、钼靶、Mo、铁镍靶、FeNi、钨靶、W等
金属溅射靶材。
2. 陶瓷靶材
ITO靶、AZO靶、氧化镁靶、氧化铁靶、氮化硅靶、碳化硅靶、氮化钛靶、氧化铬靶、靶、
硫化锌靶、二氧化硅靶、一氧化硅靶、氧化铈靶、二氧化锆靶、五氧化二铌靶、二氧化钛靶、二
氧化锆靶，、二氧化铪靶，二硼化钛靶，二硼化锆靶，三氧化钨靶，三氧化二铝靶五氧化二钽，
五氧化二铌靶、氟化镁靶、氟化钇靶、硒化锌靶、氮化铝靶，氮化硅靶，氮化硼靶，氮化钛靶，
碳化硅靶，铌酸锂靶、钛酸镨靶、钛酸钡靶、钛酸镧靶、氧化镍靶等陶瓷溅射靶材。
3.合金靶材
镍铬合金靶、镍钒合金靶、铝硅合金靶、镍铜合金靶、钛铝合金、镍钒合金靶、硼铁合金靶、硅
铁合金靶等高纯度合金溅射靶材。

钛铝（TiAl）合金靶
2N8-4N
3.6-4.2
玫瑰金/咖啡色
圆柱形
直 径
60/65/95/100*30/32/40/45mm
装饰/工具

此产品广泛应用于真空镀膜行业，多弧离子镀膜设备，应用于各种膜层的镀制，银色，金色，玫瑰金，黑钛，玫瑰红，七彩色等
1.应用领域
产品广泛应用于真空制盐，精细化工，石油化工，制药，氯碱工业，电镀，电解，航空
航天，海水淡化等行业。
2、加工工艺
锻造、轧制
3、表面
车光、倒角。表面清洁光滑，无起皮，气孔，裂纹等缺陷。
4、规格
Φ100*40，Φ98*40，Φ95*45，Φ90*40，Φ85*35，Φ65*40较常见，其他规格可按客户
要求制作。
5、执行标准
国标：GB/T 16598，GB/T2965 。
美标：ASTM B381,ASTM F67,ASTMF136, ASTM B348。
6、检测
破坏性检测：物理性能测试，硬度测试，化学成分测试。
无损检测：超声检测，渗透检测，外观检测。
多元合金靶材： 钛铝靶Ti-Al、钛锆靶Ti-Zr、钛硅靶Ti-Si、钛镍靶Ti-Ni、镍铬靶Ni-Gr、镍铝靶Ni-Al、镍钒靶Ni-V、镍铁靶Ni-Fe、铁钴靶Fe-Co、铝硅靶Al-Si、钛硅靶Ti-Si、铬硅靶Cr-Si、锌铝靶Zn-Al、钛锌靶材Ti-Zn、铝硅铜靶Al-Si-Cu等……