氮化钽贮存
1、通常对水是不危害的,若无许可,勿将材料排入周围环境。
2、常温常压下稳定避免的物料 氧化物。
3、常温密闭,阴凉通风干燥处
一定工作压力下,制备的氮化钽薄膜硬度高达4000kg/mm2以上。本文探讨了氮化钽薄膜高硬度的原因,并且讨论了随氮分压的提高薄膜织构变化的原因
研究表明,影响氮化钽薄膜结合力的主要因素为溅射压力和加热温度,氮分压比、溅射电流为次要因素;氮分压对氮化钽薄膜的硬度影响较大
应用反应射频磁控技术,在氧化铝陶瓷样片上制备了方阻稳定性好的Ta N薄膜,研究了氮分压(N2/(N2+Ar))、沉积温度、沉积时间对Ta N膜层结构和电性能的影响,通过X射线衍射、四探针方阻仪器测试了薄膜的微结构和方阻值