BST 薄膜层能阻止BNF 中的自由载流子在电极与BNF 薄膜之间移动.而顶层BST 薄膜在工艺过程中抑制Bi 元素的挥发起了决定性作用,进一步降低了BST/BNF/BST 中BNF 薄膜层的自由电荷,所以BST/BNF/BST 比BNF/BST 有更低的漏电流水平.在100 kHz 条件下,BST/BNF/BST 薄膜具有损耗至0.0012.
测试电压为5 V时,无光和光照时的漏电流密度分别为2.92 mA/cm2和10.10 mA/cm2。通过对电流密度的拟合发现:欧姆传导为外延ITO/BFMO/SRO电容器的主要漏电机制,并且光照没有改变电容器的导电机制。
一种铁酸铋-铁酸锰复合多铁性陶瓷的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:(1)将铁酸铋粉末进行粉磨;(2)采用溶胶凝胶工艺,将二氧化锆胶体涂覆在铁酸铋粉末表面,得到包覆有二氧化锆涂层的铁酸铋粉末;(3)将铁酸锰粉末粉磨并与步骤(2)中得到的铁酸铋粉末按照化学计量比为(1-x)BiFeO3-xMnFe2O4进行混合,其中:0<x<0.4,x为摩尔分数,得到混合后的配料;(4)配料加入无水后粉磨;(5)将粉磨后的粉末烘干后,放入坩埚中,在空气氛围下预烧;(6)将预烧后的粉末在稀硝酸中溶解,并烘干后粉磨,再在模具中压制成圆片,将圆片置于坩埚中,在空气氛围下烧结得到该陶瓷样品。
采用溶胶-凝胶的方法在 Pt(111)/Ti/SiO2/Si(001)基片上制备了5%Mn掺杂的BiFeO3(BFMO)薄膜,并构建了Pt/BFMO/Pt对称型电容器, 研究了紫光对多晶BFMO薄膜铁电性及J-V特性的影响.实验发现,在紫光的照射下,薄膜的电导,这是由于紫光入射在BFMO薄膜上,产生了光生载流 子.